潜心研究十多年终于有成果！中国开发了5纳米激光光刻机？
手机集成电路对于手机来说有多么重要，相信大家都知道，那么作为制造集成电路的光刻机，相信大家也会有一些了解，作为半导体集成电路重要的加工设备，我国很多企业一直在努力研发，终于有好消息传来。
美国最大的光刻机供应商ASML透露，美国阻止ASML向国内交付最新生产的光刻机设备，美国这样做大大延缓了国内半导体行业的发展速度，同时因为光刻工艺直接影响着半导体线路的线宽，进而影响着集成电路的性能与消耗，因此光刻机成为半导体行业最为关键的设备，但是目前EUV光刻机还不够成熟，集成电路产能和速度都不够快，因此在早期可能只有一部分采用EUV光刻完成，其余的部分依旧会采用沉浸式光刻和多重成像技术。
2019年第17届ieee国际集成电路设计与工艺会议通知，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所和国家纳米科学技术中心传出了新的好消息，刘应开教授的论文曾被刊登在美国期刊《先进材料》中，文章内容主要关于合金半导体材料方面的研究，公司是专业从事集成电路设计以及半导体微电子相关产品生产的高新技术企业，目前的主要产品是集成电路和半导体产品。
中国半导体终于传出喜讯，中国科学院宣布，5纳米制程的集成电路光刻设备或许离中国不再遥远，国内一家研究公司已经开发了一款5纳米级别的激光光刻机，激光光刻机可以通过特殊的光线完成精确的图案设计，可以帮助微电子产业、半导体集成电路系统完善，集成电路厂商微电子成立于2002年，是一家发展迅速的集成电路设计代工公司，为客户提供定制化半导体解决方案和系统级集成电路(SOC)设计的一站式服务。
而为了让其自身保持在集成电路代工领域的领先地位，台积电更是计划于2020年斥资1000到1100亿来购买光刻机等集成电路代工必需的设备，随着光刻技术的进步，具有长行程和纳米级定位精度的二维超精密工件台用于光刻机中，虽然仅仅是理论上可行的方法，但已经赐与了国内代工5纳米技术的雏形，光刻机作为半导体生产制造环节最重要的核心部件，其关键技术一直被荷兰ASML公司垄断，并被西方限制向中国大陆出口。
高端光刻机在中国被禁售，即使中端光刻机也有保留条款，禁止给国内自主CPU做代工，导致自主技术成长困难重重，未来的发展势必需要依靠中国大陆发展自己的高端集成电路代工产线，如今国内激光光刻机技术的突破，无疑是一次具有跨时代意义的事件，光刻设备国产化，前路漫漫，相信在不久的将来，中国集成电路代工行业一定会克服这些困难的。
